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  旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的,里面装有静止不动的磁体,以慢速转动。


  溅射靶材用于磁控溅射镀膜,溅射镀膜是一?#20013;?#22411;的物理气相镀膜(PVD)方式。


  在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电子,靶上加有一定的负高压,从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大,在阴极附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速?#19978;?#38774;面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面?#19978;?#22522;片淀积成膜。


  溅射镀膜的主要应用于:平板显示器、镀膜玻璃工业(主要包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学薄膜玻璃等)、薄膜太阳能、表面工程(装饰&工具)、(磁、光)记录介质、微电子、汽车车灯、装饰镀膜等


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